Sensibilidad en estructuras de guías de onda Strip y Rib con material SU-8 en Interferómetro Mach Zehnder
DOI:
https://doi.org/10.15665/rp.v24i1.3848Palabras clave:
fotónica, guías de onda, Interferómetro Mach Zehnder, sensibilidad, SU-8Resumen
La tecnología de Silicio, ampliamente utilizada en fotónica, es costosa debido a los procesos de fabricación y la infraestructura requerida. En contraste, los polímeros ofrecen una alternativa más económica y versátil para la fabricación de dispositivos fotónicos. Por ello, las empresas buscan nuevas tecnologías y metodologías que permitan desarrollar interferómetros fotónicos con menor costo y mayor eficiencia, impulsando la investigación en materiales innovadores como los polímeros. El objetivo del artículo es comparar la sensibilidad de las estructuras de guías de onda Strip y Rib con material SU-8 implementadas en un Interferómetro Mach Zehnder. La metodología contempla diez fases denominadas definición de geometría, selección del fenómeno físico, selección de la guía de onda, definición de parámetros, definición del área de simulación, simulación de elementos finitos, análisis de modos de propagación, análisis de curvas de Cut-off, diseño del interferómetro y análisis de sensibilidad del Interferómetro Mach Zehnder. Como resultado, la estructura Strip con alto de núcleo de 220 nm alcanza la sensibilidad más alta de 57.51× rad/RIU, y un límite de detección de 7.10× RIU. Se concluye que la estructura tipo Strip, fabricada con material SU-8, es una alternativa viable para sensores ópticos de precisión, con la ventaja adicional en la reducción de costos de fabricación del Interferómetro Mach Zehnder.
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