Optimización del consumo de disolvente Lule 10 en un proceso litográfico a partir de la metodología DMAMC de programas seis sigma. Prospectiva, [S. l.], v. 11, n. 2, p. 46–52, 2014. DOI: 10.15665/rp.v11i2.38. Disponível em: https://ojs.uac.edu.co/index.php/prospectiva/article/view/38. Acesso em: 2 oct. 2026.